کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
11003684 1461590 2019 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Adjustment of isotropic part properties in laser sintering based on adapted double laser exposure strategies
ترجمه فارسی عنوان
تنظیم خواص بخار ایزوتروپیک در پخت لیزر بر اساس استراتژی قرار گرفتن در معرض دو لایه دوگانه
کلمات کلیدی
اسپری لیزری، ویژگی های مکانیکی، ناهمسانگردی، خواص ایستروپیک، استراتژی قرار گرفتن دو لیزر، درک فرایند،
ترجمه چکیده
هدف از این آزمایش ها بررسی میزان تاخیر در بهبود چسبندگی لایه به لایه و در نتیجه ارزش مشخصه در جهت ساختمان با استراتژی های جابجایی جایگزین می باشد. برای این منظور، تأثیر استراتژی قرار گرفتن در معرض تابش دو لایه سازگار بر لایه ی لایه یابی و آنیزوتراپی بررسی شد. تأثیر تنظیمات پارامترهای مختلف برای نوردهی اول و دوم مورد بررسی قرار گرفت. در یک مرحله دیگر بررسی شد که تا چه اندازه تأثیر اختلالات در فرایند، مانند توزیع دمای نامحدود و یا تغییرات زمان چرخه می تواند با استفاده از استراتژی های قرار گرفتن در معرض لیزر دوگانه توسعه یافته کاهش یابد. برای این منظور، مقایسایی بین یک پارامتر قرار گرفتن در معرض تابش دوگانه بهینه شده و تنظیم پارامتر استاندارد انجام شد.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی
The aim of the experiments was to investigate to what extent an improvement of the layer-to-layer bonding and thus of the characteristic values in the building direction can be achieved by alternative exposure strategies. For this purpose, the influence of adaptive double laser exposure strategies on layer-to-layer bonding and anisotropy was investigated. The influence of different parameter settings for the first and second exposure was investigated. In a further step it was examined to what extent the influence of disturbances on the process, such as the inhomogeneous temperature distribution or cycle time variations can be reduced by applying the developed double laser exposure strategies. For this purpose, a comparison was made between an optimized double laser exposure parameter set and the standard parameter set.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics & Laser Technology - Volume 109, January 2019, Pages 381-388
نویسندگان
, ,