کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
11007989 1840490 2018 15 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 201, 5 December 2018, Pages 1-5
نویسندگان
, , , , , , , , , , , ,