کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
11015721 1781704 2019 12 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Enhanced capacitive property of HfN film electrode by plasma etching for supercapacitors
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Enhanced capacitive property of HfN film electrode by plasma etching for supercapacitors
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 235, 15 January 2019, Pages 148-152
نویسندگان
, , , , ,