کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
11015721 | 1781704 | 2019 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Enhanced capacitive property of HfN film electrode by plasma etching for supercapacitors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 235, 15 January 2019, Pages 148-152
Journal: Materials Letters - Volume 235, 15 January 2019, Pages 148-152
نویسندگان
Zecui Gao, Zhengtao Wu, Shengsheng Zhao, Tengfei Zhang, Qimin Wang,