کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4971029 | 1450311 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The properties of Cu metallization based on CuMgAl alloy buffer layer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 170, 25 February 2017, Pages 16-20
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 170, 25 February 2017, Pages 16-20
نویسندگان
Zhinong Yu, Jianshe Xue, Qi Yao, Zhengliang Li, Guanbao Hui, Wei Xue,