کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5349257 1388098 2018 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth, stability and decomposition of Mg2Si ultra-thin films on Si (100)
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Growth, stability and decomposition of Mg2Si ultra-thin films on Si (100)
چکیده انگلیسی
Due to high reactivity between magnesium and oxygen species, the thermal oxidation process in which a thin Mg2Si film is fully decomposed (0.75 eV band gap) into a magnesium oxide layer (6-8 eV band gap) is also reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 427, Part B, 1 January 2018, Pages 522-527
نویسندگان
, , , , , ,