کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6600767 | 1423966 | 2018 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electroless atomic layer deposition of copper
ترجمه فارسی عنوان
اتوکلاو الکترولیس رسوب مس
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
رسوب تحت فشار، جایگزینی مجدد سطحی محدود سطحی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 91, June 2018, Pages 45-48
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 91, June 2018, Pages 45-48
نویسندگان
Kailash Venkatraman, Aniruddha Joi, Yezdi Dordi, Rohan Akolkar,