کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8024662 1517551 2017 33 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructure of gas flow sputtered thermal barrier coatings: Influence of bias voltage
ترجمه فارسی عنوان
ریزپردازنده از جریان گاز پراکنده پوشش های حرارتی: تاثیر ولتاژ تعصب
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
The application of a negative bias voltage enhances the surface mobility of the film-forming adatoms and can cause densification due to atom displacements, resputtering or channeling phenomena. Moderate bias voltages up to − 40 V result in more regular columns and a lower porosity. For high bias voltages (− 100 V), the densification effects seem to dominate leading to fully dense coatings with residual stresses up to − 2.5 GPa and no preferential grain orientation, rendering this bias value unsuitable for thermal barrier coatings.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 332, 25 December 2017, Pages 22-29
نویسندگان
, , , , , ,