کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8032486 | 1517951 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Substrate and annealing temperature dependent electrical resistivity of sputtered titanium nitride thin films
ترجمه فارسی عنوان
مقاومت الکتریکی وابسته به دمای بستگی و درجه حرارت آن از فیلم های نازک تیتانیوم اسپری شده
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
نیترید تیتانیوم، فیلم نازک، مقاومت الکتریکی، اسپری واکنش پذیر، آنیلینگ حرارتی، پراش اشعه ایکس، مانع نفوذ هدایت،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
We have studied the electrical resistivity and the temperature coefficient of resistance (TCR) of titanium nitride (TiNx) thin films deposited by radio-frequency (RF) reactive magnetron sputtering from a high purity titanium target in a nitrogen-argon gas mixture environment with high nitrogen-to-argon ratio (20:1). The electrical resistivity and TCR are measured from room temperature to 500â¯Â°C for films deposited with substrate temperatures of 25â¯Â°C, 350â¯Â°C and 600â¯Â°C. After deposition, some films are annealed at 600â¯Â°C for four hours either with or without breaking the vacuum. The structural stability of the films was examined by measuring electrical resistivity from room temperature to 500â¯Â°C repeatedly up to four cycles. Selected films were further characterized by Rutherford backscattering, X-Ray diffraction, and Raman spectroscopy. Our results show that RF sputtered TiNx films with good electrical resistivity and temperature-stable TCR for high-temperature applications of conductive diffusion barrier and temperature sensing can be produced. We conclude that high substrate temperature, high annealing temperature, and annealing without breaking the vacuum yield optimal structural stability and electrical resistivity. High mass density is also important to prevent oxidation and degradation of electrical performance.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 661, 1 September 2018, Pages 78-83
Journal: Thin Solid Films - Volume 661, 1 September 2018, Pages 78-83
نویسندگان
B.T. Kearney, B. Jugdersuren, J.C. Culbertson, P.A. Desario, Xiao Liu,