کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8032792 | 1517961 | 2018 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Oxidation of polycrystalline copper films - Pressure and temperature dependence
ترجمه فارسی عنوان
اکسیداسیون فیلم های پلی کریستالی - فشار و وابستگی به دما
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Oxidation of polycrystalline Cu films is investigated in a wide range of temperatures and O2 pressures. The composition of the resulting oxide is derived from transmission and absorption spectra, analyzed with the transfer-matrix and a modified Tauc method, as well as from photoelectron spectroscopy. No Cu oxidation occurs at oxygen pressures below 1â¯mbar, indicative for a pressure-dependent barrier. At higher pressures, either cuprous or cupric oxide forms at oxidation temperatures below 460â¯K and above 500â¯K, respectively, while both phases coexist at intermediate temperatures. Oxide films of unknown stoichiometry, possibly Cu4O3, are revealed in the pressure range between 1 and 10â¯mbar. Based on these results, a formation diagram for copper oxides is developed and compared to respective phase diagrams in the literature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 651, 1 April 2018, Pages 24-30
Journal: Thin Solid Films - Volume 651, 1 April 2018, Pages 24-30
نویسندگان
Björn Maack, Niklas Nilius,