Article ID | Journal | Published Year | Pages | File Type |
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1858832 | Comptes Rendus Physique | 2006 | 4 Pages |
Lithography has been the key enabler for scaling feature sizes of integrated circuits, allowing the exponential growth of the semiconductor industry. This article will briefly describe the major challenges of this technology in microelectronics and introduce the review articles presented in this special issue. To cite this article: M. Brillouët, C. R. Physique 7 (2006).
RésuméLa lithographie a été le facteur clé pour réduire les tailles de motifs des circuits intégrés, ce qui a permis une croissance exponentielle de l'industrie du semiconducteur. Cet article décrira brièvement les enjeux majeurs de cette technologie en microélectronique et introduira les revues présentées dans ce dossier. Pour citer cet article : M. Brillouët, C. R. Physique 7 (2006).