آشنایی با موضوع

در میکروساخت، اکسیداسیون حرارتی راهی برای تولید یک لایه نازک از اکسید (معمولا دی اکسید سیلیکون) بر روی سطح ویفر است. این تکنیک یک عامل اکسیدکننده را در دمای بالا به ویفر وارد می کند و با آن واکنش نشان می دهد. نرخ رشد اکسید اغلب توسط مدل Deal-Grove پیش بینی شده است. اکسیداسیون حرارتی ممکن است به مواد مختلف اعمال شود.
در این صفحه تعداد 401 مقاله تخصصی درباره اکسیداسیون حرارتی که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید.
در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.
متأسفانه هیچ مقاله ای در این موضوع وجود ندارد