![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Metal-organic chemical vapor deposition of high-k dielectric Ce-Al-O layers from various metal-organic precursors for metal-insulator-metal capacitor applications
Keywords: آلومینات سریم; High-k dielectrics; Cerium aluminate; Thin films; Metal-organic chemical vapor deposition; Annealing; Crystallization; Metal-insulator-metal applications;