Keywords: اکسید بالا; High-k oxide; HfO2; Capacitance–voltage measurements; Conductance; SEM
مقالات ISI اکسید بالا (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Density-functional theory molecular dynamics simulations of a-HfO2/a-SiO2/SiGe and a-HfO2/a-SiO2/Ge with a-SiO2 and a-SiO suboxide interfacial layers
Keywords: اکسید بالا; Density-functional theory; High-K oxide; Oxide/semiconductor interface; Molecular dynamics; SiGe; Ge;
RF and microwave dielectric response investigation of high-k yttrium copper titanate ceramic for electronic applications
Keywords: اکسید بالا; High-k oxide; Rare-earth copper titanate; Dielectric characterization; RF/microwave regime; Cavity perturbation method;
Tunnel FET with non-uniform gate capacitance for improved device and circuit level performance
Keywords: اکسید بالا; Tunnel Field-Effect Transistor (TFET); Oxide capacitance; High-k oxide; Finite element simulation
Optical properties and thermal stability of LaYbO3 ternary oxide for high-k dielectric application
Keywords: اکسید بالا; High-k oxide; Ternary rare earth oxide; LaYbO3; Physical properties;
Characteristics of high-k dielectric ECR-ALD lanthanum hafnium oxide (LHO) films
Keywords: اکسید بالا; Lanthanum hafnium oxide (LHO); Atomic layer deposition; High-k oxide
Molecular dynamics simulation comparison of atomic scale intermixing at the amorphous Al2O3/semiconductor interface for a-Al2O3/Ge, a-Al2O3/InGaAs, and a-Al2O3/InAlAs/InGaAs
Keywords: اکسید بالا; Density-functional theory; Amorphous oxides; Ge; InGaAs; InAlAs; Oxide-semiconductor stack; High-K oxide;
HfO2 gate insulator formed by atomic layer deposition for thin-film-transistors
Keywords: اکسید بالا; 81.05.-tThin-film-transistor; ALD; High-k oxide; HfO2
Interfaces and defects of high-K oxides on silicon
Keywords: اکسید بالا; High-K oxide; Interface; Defects; Electronic properties;