کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10411595 | 894671 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication and electrical characterizations of SGOI tunnel FETs with gate length down to 50Â nm
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We report the fabrication and the characterization of tunnel FETs fabricated on SiGe-On-Insulator with a High-κ Metal Gate (HKMG) CMOS process. The beneficial impact of low band gap SiGe channel on ID(VG) characteristics is presented and analyzed: compressive Si0.75Ge0.25 enables to increase by a factor of 25 the saturation currents, even at small gate length (LG = 50 nm). This large gain is due to the threshold voltage shift and to enhanced intrinsic band-to-band tunneling injection (both related to the narrow band gap of SiGe channels).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 115, Part B, January 2016, Pages 167-172
Journal: Solid-State Electronics - Volume 115, Part B, January 2016, Pages 167-172
نویسندگان
C. Le Royer, A. Villalon, L. Hutin, S. Martinie, P. Nguyen, S. Barraud, F. Glowacki, F. Allain, N. Bernier, S. Cristoloveanu, M. Vinet,