کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10676301 | 1011298 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface roughness of hydrogen silsesquioxane as a negative tone electron beam resist
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
These results are discussed in terms of structural changes and network formation in thin HSQ films. They prove that a process combining high developer concentration and low baking temperature is preferable for fabrication of high resolution patterns using HSQ as a negative tone EB resist.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 77, Issue 2, 17 January 2005, Pages 117-123
Journal: Vacuum - Volume 77, Issue 2, 17 January 2005, Pages 117-123
نویسندگان
Y.M. Georgiev, W. Henschel, A. Fuchs, H. Kurz,