کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1486327 | 1510556 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Selective crystallization of amorphous silicon thin film by a CW green laser
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A simple and effective method for selective CW laser crystallization of a-Si (CLC) without pre-patterning of a-Si has been reported. By using a metallic shadow mask instead of a photolithographic process, we can reduce the process steps and time compared with a conventional CLC process. It shows very high performance – mobility of 173 cm2/s, Ioff of ∼10−13 A @ Vd = −5 V, Ion/Ioff of >108 – as a p-channel poly-Si TFT even without any pre-/post-treatment to improve TFT characteristics such as plasma hydrogenation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 352, Issues 9–20, 15 June 2006, Pages 993–997
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 352, Issues 9–20, 15 June 2006, Pages 993–997
نویسندگان
Seong Jin Park, Yu Mi Ku, Eun Hyun Kim, Jin Jang, Ki Hyung Kim, Chae Ok Kim,