کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1500760 | 993358 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Phase evolution and photoluminescence in as-deposited amorphous silicon nitride films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A systematic study of hydrogenated amorphous silicon nitride films deposited by varying gas flow rate ratio (R = SiH4/NH3) using Photo-Chemical Vapour Deposition reveal that as R is increased, dominant phase changes from silicon oxynitride to silicon nitride with embedded silicon nanoclusters. The change in photoluminescence spectral features in these films is attributed to quantum confinement effect. The results suggest that hydrogen plays a crucial role in overall phase evolution and in-situ formation of Si nanoclusters embedded in silicon nitride matrix.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 63, Issue 6, September 2010, Pages 605–608
Journal: Scripta Materialia - Volume 63, Issue 6, September 2010, Pages 605–608
نویسندگان
Sarab Preet Singh, P. Srivastava, S. Ghosh, S.A. Khan, Claudio J. Oton, G. Vijaya Prakash,