کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667191 | 1008844 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and morphology of aluminium doped Zinc-oxide layers prepared by atomic layer deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The aim of this work is to study the effects of deposition temperature and aluminium incorporation on the crystalline properties, orientation and grain size of atomic layer deposited ZnO layers. X-ray diffraction analysis revealed a change in the dominant crystallite orientation with increasing substrate temperature. The most perfect crystal structure and largest grain size was found at 2 at.% aluminium content. Accumulation of compressive strain developed a monotonous increase with the growth temperature. Electric resistivity showed no anisotropy despite the change in the orientation, therefore the dominant conduction mechanism is not grain boundary related.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4703–4706
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4703–4706
نویسندگان
Zs. Baji, Z. Lábadi, Z.E. Horváth, I. Bársony,