کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667213 | 1008844 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Oxidation of nanostructured Ti films produced by low energy cluster beam deposition: An X-ray Photoelectron Spectroscopy characterization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We used in-situ X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) to study the oxidation process of a cluster-assembled metallic titanium film exposed to molecular oxygen at room temperature. The nanostructured film has been grown on a Si(111) substrate, in ultra high vacuum conditions, by coupling a supersonic cluster beam deposition system with an XPS experimental chamber. Our results show that upon in-situ oxygen exposure Ti3 + is the first oxidation state observed, followed by Ti4 +, whereas Ti2 + is practically absent during the whole process. Our results compare well with the existing literature on Ti films produced using other techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4803–4807
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4803–4807
نویسندگان
Monica de Simone, Elena Snidero, Marcello Coreno, Gero Bongiorno, Luca Giorgetti, Matteo Amati, Cinzia Cepek,