کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1671420 | 1008916 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Large area VHF plasma production by a balanced power feeding method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We developed a VHF plasma source using a balanced power feeding method and investigated the characteristics of the VHF plasma with the Langmuir probe. It was found that the new VHF plasma source provides higher electron density plasma that is favorable for increasing the deposition rate of microcrystalline silicon films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 13, 1 May 2008, Pages 4430–4434
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 13, 1 May 2008, Pages 4430–4434
نویسندگان
T. Nishimiya, Y. Takeuchi, Y. Yamauchi, H. Takatsuka, T. Shioya, H. Muta, Y. Kawai,