کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1674181 | 1008959 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Lowering of L10 phase transition temperature of FePt thin films by single shot H+ ion exposure using plasma focus device
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
FePt thin films are exposed to pulsed energetic H+ ion beam from plasma focus. In irradiated films, the phase transition from the low Ku disordered face-centered-cubic structure to high Ku ordered face-centered-tetragonal phase was achieved at 400 °C with the order parameter S ranging from 0.73 to 0.83, high coercivity of about 5356 kA/m, high negative nucleation field of about 7700 kA/m and high squareness ratio ranging from 0.73 to 0.79. The advantage of using plasma focus device is that it can lower phase transition temperature and significantly enhance the magnetic properties by a pulsed single shot exposure.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 8, 27 February 2009, Pages 2753–2757
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 8, 27 February 2009, Pages 2753–2757
نویسندگان
Z.Y. Pan, J.J. Lin, T. Zhang, S. Karamat, T.L. Tan, P. Lee, S.V. Springham, R.V. Ramanujan, R.S. Rawat,