Highly charged ion induced nanostructures at surfaces by strong electronic excitations

شکل گیری نانوساختار توسط اثرات یون های بسیار آهسته تک آهسته می تواند با چگالی بالایی از تحریک های الکترونیکی در نقاط ضربه یون همراه باشد. نتایج تجربی نشان می دهد که با توجه به مواد هدف، این تحرک های الکترونیکی ممکن است منجر به تولید بسیار زیاد سوراخدار در حدود 1000 اتم در هر یون یا تشکیل نانوفیلک ها در محل ضربه شوند. حتی در غشاهای عایق نازک نانو، تشکیل پس از نانومتر بعد از اثر یون مشاهده می شود. در این مقاله، نتایج اخیر بر روی ساخت نانوساختارها را با یونهای بسیار بار نشان می دهیم و آنها را با ساختارها و نقص هایی که بعد از اشعه یون های شدید الکترون و تابش یون های بلوری یون و گرافن مشاهده می شود، مقایسه می کنیم. داده های اضافی در مورد تلفات انرژی، تعویض شارژ و انتشار الکترون های ثانویه یون های بسیار شارژ به وضوح نشان می دهد که شارژ یون غلبه بر تشکیل نقص در سطح است.