کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5431601 | 1508824 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synthesis of multi-layer graphene films on silica using physical vapour deposition
ترجمه فارسی عنوان
سنتز گرافن چندلایه بر روی سیلیس با استفاده از رسوب بخار فیزیکی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
گرافن؛ رسوبات انرژی؛ قوس خلاء کاتدیک فیلتر ؛ کربن گرافیتی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
چکیده انگلیسی
Carbon films and underlying copper template-layers have been deposited energetically in the same filtered cathodic vacuum arc system at 750 °C. The high quality <111> copper template-layers were supported on either silicon or silica and were subsequently sacrificially etched. On silicon, copper silicide formed during the copper deposition process, inhibiting ordered growth in the carbon film. On silica, large areas of multi-layer graphene (up to â¼10 layers) oriented parallel to the substrate were synthesised and these remained intact after the sacrificial etching process. The ability to produce both copper and multilayer graphene layers in one system enables simplified fabrication of this material.
234
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Carbon - Volume 123, October 2017, Pages 683-687
Journal: Carbon - Volume 123, October 2017, Pages 683-687
نویسندگان
Daniel T. Oldfield, Chi P. Huynh, Stephen C. Hawkins, James G. Partridge, Dougal G. McCulloch,