کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5447580 1511501 2017 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanocrystalline silicon thin films from SiH4 plasma diluted by H2 and He in RF-PECVD
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Nanocrystalline silicon thin films from SiH4 plasma diluted by H2 and He in RF-PECVD
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Physics and Chemistry of Solids - Volume 105, June 2017, Pages 90-98
نویسندگان
, ,