کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5464228 | 1517198 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of homogeneous CIGS thin film by plasma-enhanced Se vapor selenization coupled with etching process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 190, 1 March 2017, Pages 276-279
Journal: Materials Letters - Volume 190, 1 March 2017, Pages 276-279
نویسندگان
Xiaoqing Zhang, Yunxiang Huang, Wei Yuan, Yong Tang, Lin Li,