کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466005 | 1517976 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of source gases on the properties of silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
ترجمه فارسی عنوان
اثرات گازهای منبع بر خواص فیبر کربن مانند الماس مانند سیلیکون / نیتروژن تهیه شده توسط پلاسمای افزایش پوشش شیمیایی بخار
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
کربن الماس مانند، سیلیکون، نیتروژن، تردید استرس داخلی، چسبندگی، رسوبات بخار شیمیایی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
We have deposited silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon (Si-N-DLC) films by plasma-enhanced chemical vapor deposition using dimethylsilane [SiH2(CH3)2; DMS] and N2 as the Si and N sources, respectively. We compared the properties of the Si-N-DLC films with those of the film prepared using hexamethyldisilazane [((CH3)3Si)2NH; HMDS] as the Si/N single source. There was little difference in the Si and N fractions between the Si-N-DLC (DMSÂ +Â N2) film prepared at a N2 flow ratio of 6.81% and Si-N-DLC (HMDS) film deposited at a HMDS flow ratio [HMDS/(HMDSÂ +Â CH4)]of 2.27%. It was found that the internal stress of the Si-N-DLC (DMSÂ +Â N2) film was lowered compared with that of the Si-N-DLC (HMDS) film. The Si-N-DLC films showed much higher adhesion strength than a pure DLC film. We found that the Si-N-DLC (DMSÂ +Â N2) film had lower friction and higher wear resistance than the Si-N-DLC (HMDS) film. The wear rate of the Si-N-DLC (DMSÂ +Â N2) film was nearly as low as that of the pure DLC film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 177-182
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 177-182
نویسندگان
Hideki Nakazawa, Kohei Magara, Takahiro Takami, Haruka Ogasawara, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki,