کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6601145 | 459313 | 2016 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ab initio calculation and electrochemical verification of a passivated surface on copper with defects in 0.1Â M NaOH
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The thermodynamic character and dynamic behavior of vacancies in a passivated copper surface were investigated by calculations and experiments, and the data were interpreted in terms of the Point Defect Model (PDM). Both the experimental and computational results show that the principal vacancy in the passive film on copper formed anodically in 0.1 M NaOH solution is the copper vacancy and the diffusion coefficient of the copper vacancy is of the order of 10â 17 cm2/s.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 68, July 2016, Pages 62-66
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 68, July 2016, Pages 62-66
نویسندگان
Aoni Xu, Chaofang Dong, Xin Wei, Feixiong Mao, Xiaogang Li, Digby D. Macdonald,