کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6978210 1453865 2016 12 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of different chemical surface patterns on the dynamic wetting behaviour on flat and silanized silicon wafers during inclining-plate measurements: An experimental investigation with the high-precision drop shape analysis approach
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر الگوهای سطوح مختلف شیمیایی بر رفتار خیساندن پویا روی وفلهای سیلیکونی صاف و سیانانی در طول اندازه گیری صفحات لبه: یک مطالعه تجربی با روش تحلیل دقیق شکل دقت بالا
کلمات کلیدی
زاویه تماس، مرطوب کننده ورق خمشی آبگریز، زاویه پیشرفته زاویه ورودی تجزیه و تحلیل شکل قطره دقت بالا،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی شیمی کلوئیدی و سطحی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects - Volume 508, 5 November 2016, Pages 274-285
نویسندگان
, , , , ,