کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
734198 | 893401 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of deposition temperature on the structural and morphological properties of thin ZnO films fabricated by pulsed laser deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
ZnO thin films were grown on Si(1 0 0) substrates using pulsed laser deposition in O2 gas ambient (10 Pa) and at different substrate temperatures (25, 150, 300 and 400 °C). The influence of the substrate temperature on the structural and morphological properties of the films was investigated using XRD, AFM and SEM. At substrate temperature of T=150 °C, a good quality ZnO film was fabricated that exhibits an average grain size of 15.1 nm with an average RMS roughness of 3.4 nm. The refractive index and the thickness of the thin films determined by the ellipsometry data are also presented and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics & Laser Technology - Volume 40, Issue 2, March 2008, Pages 247–251
Journal: Optics & Laser Technology - Volume 40, Issue 2, March 2008, Pages 247–251
نویسندگان
Rakhi Khandelwal, Amit Pratap Singh, Avinashi Kapoor, Sorin Grigorescu, Paola Miglietta, Nadya Evgenieva Stankova, Alessio Perrone,