کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
743477 894358 2009 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Oxygen sensitivity of SrTiO3 thin film prepared using atomic layer deposition
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Oxygen sensitivity of SrTiO3 thin film prepared using atomic layer deposition
چکیده انگلیسی

A strontium titanate (SrTiO3) thin film showed high oxygen sensitivity on the ppb order at room temperature. The sensitivity is enough to monitor oxygen contamination in semiconductor manufacturing processes, which is becoming increasingly important as semiconductor devices are scaled down to the nanometer generation. The SrTiO3 film was prepared using atomic layer deposition (ALD), which has been established and found suitable for mass production.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Sensors and Actuators B: Chemical - Volume 136, Issue 2, 2 March 2009, Pages 489–493
نویسندگان
, ,