کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
748517 | 894767 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
25-nm programmable virtual source/drain MOSFETs using a twin SONOS memory structure
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
25-nm PVS MOSFETs using a twin SONOS memory structure have been successfully fabricated and characterized for the first time. Compared with our previous study, the gate length, the gate oxide thickness and the storage node length are scaled down to 25, 4, and 20 nm, respectively. When erased, they show a normal transistor operation with short channel effect suppressed. However, when programmed, they remain in OFF state regardless of the gate voltage. It is confirmed that PVS MOSFETs have a good feasibility for mobile applications which require both high performance and low-power consumption.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 6, June 2006, Pages 914–919
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 6, June 2006, Pages 914–919
نویسندگان
Woo Young Choi, Byung Yong Choi, Dong-Won Kim, Choong-Ho Lee, Donggun Park, Jong Duk Lee, Byung-Gook Park,