کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037090 | 1518073 | 2013 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of target surface morphology on the deposition flux during direct-current magnetron sputtering
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر مورفولوژی سطح هدف بر جریان رسوب در جریان اسپکترومنت مگنترون مستقیم جریان
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اسپری مگنترون، اهداف پودر، عملکرد اسپری، توزیع زاویه ای،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠Solid and pressed powder targets were used to determine sputter yields. ⺠The experimental trends are reproduced by a Monte Carlo code. ⺠The nascent angular distribution of sputtered particles is calculated. ⺠A significant influence of the target morphology on the deposition flux is reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 531, 15 March 2013, Pages 32-41
Journal: Thin Solid Films - Volume 531, 15 March 2013, Pages 32-41
نویسندگان
F. Boydens, W.P. Leroy, R. Persoons, D. Depla,