کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8037135 1518073 2013 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of N-polar GaN Using a CrN buffer layer on (0001) Al2O3 via plasma-assisted molecular beam epitaxy
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Growth of N-polar GaN Using a CrN buffer layer on (0001) Al2O3 via plasma-assisted molecular beam epitaxy
چکیده انگلیسی
► Demonstration of N-polar GaN growth on sapphire using CrN buffer layer. ► Polarity selection model proposed to explain the experimental observations. ► Improvement of N-polar GaN crystallinity with thermal treatment of CrN layers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 531, 15 March 2013, Pages 88-92
نویسندگان
, ,