کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812879 | 1518122 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multi-scale simulation of plasma generation and film deposition in a circular type DC magnetron sputtering system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The target erosion profiles are expected from the ion current density distribution on the sputter target simulated by two-dimensional PIC-MCC magnetron plasma simulator, and these profiles are compared with the experimental results. We present a discussion about the optimum detection range for the quasi-steady state of magnetron plasma in PIC-MCC simulation. Macro/microfilm deposition simulator predicts the macrofilm uniformity over the wafer and the micro-deposition topography in the micro-holes. Finally, we present a new algorithm, which can generate an asymmetric angular flux distribution, based on Monte Carlo method for microfilm deposition simulation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 475, Issues 1â2, 22 March 2005, Pages 17-23
Journal: Thin Solid Films - Volume 475, Issues 1â2, 22 March 2005, Pages 17-23
نویسندگان
U.H. Kwon, S.H. Choi, Y.H. Park, W.J. Lee,