کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1497538 | 1510800 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optical near-field lithography in chalcogenide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Chalcogenide glasses have attracted much interest for use in many fields of optics: microoptics, diffractive optics, optical communication, non-linear optics, etc. This paper focuses on the fabrication of subwavelength gratings based on nano-photolithography using chalcogenide films and scanning atomic force microscope (AFM) equipped with an optical near field source. The nano-lithography system is described and the results obtained using As2S3 chalcogenide films are presented. Variable period gratings with 100 nm line width are presented.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optical Materials - Volume 28, Issues 8–9, June 2006, Pages 1054–1057
Journal: Optical Materials - Volume 28, Issues 8–9, June 2006, Pages 1054–1057
نویسندگان
Salman Noach, Michael Manevich, Naftali P. Eisenberg, Dan Davidov, Matvey Klebanov, Victor Lyubin,