کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1559855 1513892 2016 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A model for statistical electromigration simulation with dependence on capping layer and Cu microstructure in two dimensions
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مکانیک محاسباتی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A model for statistical electromigration simulation with dependence on capping layer and Cu microstructure in two dimensions
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Computational Materials Science - Volume 120, July 2016, Pages 29-35
نویسندگان
, , , , ,