کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1657765 1517647 2013 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The film deposition via atmospheric pressure plasma from ethanol and He mixing gases
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The film deposition via atmospheric pressure plasma from ethanol and He mixing gases
چکیده انگلیسی
► Side glass substrate was subjected to be used in this experiment. ► With method of using APPT of mixing He gas and ethanol to deposit organic thin film and improve the surface hydrophilic. ► NIPAAm has specific thermo-sensitive property and lower critical solution temperature (LCST) is 33 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 231, 25 September 2013, Pages 408-411
نویسندگان
, , , , , , , ,