کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970762 | 1450301 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sodium hypochlorite as an oxidizing agent in silica based ruthenium chemical mechanical planarization slurry
ترجمه فارسی عنوان
هیپوکلریت سدیم به عنوان یک ماده اکسید کننده در سیلیس بر اساس روتونیوم شیمیایی محلول پلاریزاسیون مکانیکی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
روتنیم، هیپوکلریت سدیم، مکانیزم مکانیکی شیمیایی، اچینگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
Schematic representation of ruthenium removal at pHÂ 7.137
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 96-100
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 96-100
نویسندگان
Kavita Yadav, Jitendra C. Bisen, S. Noyel Victoria, R. Manivannan,