کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970762 1450301 2017 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sodium hypochlorite as an oxidizing agent in silica based ruthenium chemical mechanical planarization slurry
ترجمه فارسی عنوان
هیپوکلریت سدیم به عنوان یک ماده اکسید کننده در سیلیس بر اساس روتونیوم شیمیایی محلول پلاریزاسیون مکانیکی
کلمات کلیدی
روتنیم، هیپوکلریت سدیم، مکانیزم مکانیکی شیمیایی، اچینگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
هیپوکلریت سدیم به عنوان یک ماده اکسید کننده در سیلیس بر اساس روتونیوم شیمیایی محلول پلاریزاسیون مکانیکی
چکیده انگلیسی
Schematic representation of ruthenium removal at pH 7.137
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 96-100
نویسندگان
, , , ,