کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4971103 1450313 2017 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
On the spatial resolution limit of direct-write electron beam lithography
ترجمه فارسی عنوان
در قطعنامه فضایی لیتوگرافی پرتو الکترونی مستقیم
کلمات کلیدی
لیتوگرافی پرتو الکترونی مستقیم، میکروسکوپ الکتریکی انتقال اسکن، میدان الکتریکی، رزولوشن فضایی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
در قطعنامه فضایی لیتوگرافی پرتو الکترونی مستقیم
چکیده انگلیسی
Schematic drawing of the spatial resolution of EBL determined by the DIEF mechanism.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 168, 25 January 2017, Pages 41-44
نویسندگان
,