کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی ترجمه فارسی نسخه تمام متن
5140768 1495765 2017 6 صفحه PDF سفارش دهید دانلود کنید
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Rapid reagent-less on-line H2O2 quantification in alkaline semiconductor etching solution
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Rapid reagent-less on-line H2O2 quantification in alkaline semiconductor etching solution
چکیده انگلیسی
A rapid, reagent-less calorimetric method was developed for automatic on-line H2O2 quantification in industrial alkaline semiconductors etching solution. The method is based on the H2O2 catalytic decomposition by immobilized MnO2 generating heat proportional to its concentration and the employment of the Temperature-Time curve slope as a measure of the concentration.192
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Talanta - Volume 171, 15 August 2017, Pages 39-44
نویسندگان
, , , ,