کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5348555 | 1388083 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study on the preparation of boron-rich film by magnetron sputtering in oxygen atmosphere
ترجمه فارسی عنوان
مطالعه آماده سازی فیلم غنی از بور با اسپکترومغناطیسی مگنترون در محیط اکسیژن
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
فیلم بور، اسپری مگنترون، طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
In this paper, the growth of boron (10B) oxide films on (1Â 0Â 0) silicon substrate were achieved by radio frequency (r.f.) magnetron sputtering under the different oxygen partial pressure with a target of boron and boron oxide. The structure and properties of deposited films were characterized by X-ray diffraction (XRD), Fourier transform infrared spectroscopy spectrometer (FTIR), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), respectively. The results showed that the substrate was covered with boron-rich films tightly and the surface of films was covered with B2O3. And the growth mechanism of boron-rich film in oxygen atmosphere was also analyzed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 388, Part A, 1 December 2016, Pages 392-395
Journal: Applied Surface Science - Volume 388, Part A, 1 December 2016, Pages 392-395
نویسندگان
Zhangmin Pan, Yiming Yang, Jian Huang, Bing Ren, Hongze Yu, Run Xu, Huanhuan Ji, Lin Wang, Linjun Wang,