کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5354926 | 1503597 | 2016 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low temperature solution processed high-κ ZrO2 gate dielectrics for nanoelectonics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 370, 1 May 2016, Pages 373-379
Journal: Applied Surface Science - Volume 370, 1 May 2016, Pages 373-379
نویسندگان
Arvind Kumar, Sandip Mondal, K.S.R. Koteswara Rao,