کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355830 | 1503604 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synchrotron-radiation XPS analysis of ultra-thin silane films: Specifying the organic silicon
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- A synchrotron-based XPS method to analyze ultra-thin silane films is presented.
- Specification and quantification of organic next to inorganic silicon is demonstrated.
- Non-destructive chemical depth profiles of the silane monolayers were obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 363, 15 February 2016, Pages 406-411
Journal: Applied Surface Science - Volume 363, 15 February 2016, Pages 406-411
نویسندگان
Paul M. Dietrich, Stephan Glamsch, Christopher Ehlert, Andreas Lippitz, Nora Kulak, Wolfgang E.S. Unger,