کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5355830 1503604 2016 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synchrotron-radiation XPS analysis of ultra-thin silane films: Specifying the organic silicon
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Synchrotron-radiation XPS analysis of ultra-thin silane films: Specifying the organic silicon
چکیده انگلیسی

- A synchrotron-based XPS method to analyze ultra-thin silane films is presented.
- Specification and quantification of organic next to inorganic silicon is demonstrated.
- Non-destructive chemical depth profiles of the silane monolayers were obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 363, 15 February 2016, Pages 406-411
نویسندگان
, , , , , ,