کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364733 | 1388319 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanoscopic photodeposited structures analyzed by an evanescent optical method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The evanescent field propagating in waveguides was used to evaluate the profile and growth rate of laser photodeposited a-Se. A pulsed KrF excimer laser was used for deposition. The differential-evanescent light leaking image, was used to analyze the nanostructures in the deposited zones. The relation between the emerging light intensity of the evanescent wave and the optical light intensity propagating in the waveguide was connected to an effective range of the evanescent wave leaking power into the deposited material. The technique provides the nanometric profiles of the ultra-thin photodeposited structures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 15, 30 May 2007, Pages 6535-6538
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 15, 30 May 2007, Pages 6535-6538
نویسندگان
G. Socol, E. Axente, M. Oane, L. Voicu, A. Petris, V. Vlad, I.N. Mihailescu, N. Mirchin, R. Margolin, D. Naot, A. Peled,