کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364850 | 1388321 | 2009 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ni/Ni3Al interface: A density functional theory study
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The optimal geometries, mechanical and thermal properties, and electronic structures of the three low index (0 0 1), (1 1 0), (1 1 1) Ni/Ni3Al thin film were studied using first principle calculations. Simulated results indicated that Ni and Al atoms in γⲠphase preferred to place in the hollow site of Ni atoms in γ phase. In hollow site models, electronic states affected by interface localize within 2 atomic layers. While the top site model, electronic states localize within 3 atomic layers. It is also found that hollow site (1 1 0) interface has the best mechanical properties. Hollow site (0 0 1) interface is the most easily formed interface, which has the best thermodynamic properties.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 6, 1 January 2009, Pages 3669-3675
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 6, 1 January 2009, Pages 3669-3675
نویسندگان
Cong Wang, Chong-Yu Wang,