کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543439 | 1450394 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling complexity of a complex gate oxide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Hafnium dioxide has been recently introduced as a gate dielectric in the field effect transistors. It belongs to a class of high dielectric constant or high-k dielectrics. We briefly discuss the structural and electronic properties of bulk hafnia, and show how oxygen vacancies believed to affect the band alignment across the metal oxide semiconductor (MOS) stack are stabilized in hafnia films next to high work function metals.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 7–9, July–September 2009, Pages 1763–1766
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 7–9, July–September 2009, Pages 1763–1766
نویسندگان
Alexander A. Demkov, O. Sharia, X. Luo, G. Bersuker, J. Robertson,