کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
545136 | 871809 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
850 nm wavelength range nanoscale resonant optical filter fabrication using standard microelectronics techniques
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The fabrication and characterization of a nanoscale resonant optical filter at wavelength around 850 nm is reported using standard C-MOS compatible microelectronics techniques. We discuss the different steps of the process and their impact on the final structure. We show that the use of these techniques gives an efficient filter on glass substrate with high transmission and a narrow bandwidth of 0.4 nm. We also demonstrate the same process on a silicon substrate for a potential integration with electronic functions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issue 4, April 2007, Pages 673–677
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issue 4, April 2007, Pages 673–677
نویسندگان
S. Hernandez, O. Bouchard, E. Scheid, E. Daran, L. Jalabert, P. Arguel, S. Bonnefont, O. Gauthier-Lafaye, F. Lozes-Dupuy,