کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5454411 | 1514162 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Tungsten oxide thin film exposed to low energy He plasma: Evidence for a thermal enhancement of the erosion yield
ترجمه فارسی عنوان
تنگستن اکسید ورقه نازک در معرض کم انرژی پلاسما او: شواهدی برای افزایش حرارتی عملکرد فرسایش است
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
فیلم نازک اکسید تنگستن، او بمباران پلاسما، فرسایش، تعامل دیواره پلاسما، طیف سنجی رامان، میکروسکوپ الکترونی انتقال،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی هسته ای و مهندسی
چکیده انگلیسی
Nanocrystalline tungsten oxide thin films (about 75Â nm in thickness) produced by thermal oxidation of tungsten substrates were exposed to low energy He plasma (â20Â eV/He) with a flux of 2.5Â ÃÂ 1018Â mâ2Â sâ1 at two temperatures: room temperature and 673Â K. The structure and morphology modifications which occur after this He bombardment and annealing treatments was studied using Raman spectroscopy and transmission electron microscopy. Due to the low fluence (4Â ÃÂ 1021Â mâ2) and low ion energy, we have observed only few morphology modifications after He plasma exposure at room temperature. On the contrary, at 673Â K, a change in the layer color is observed associated to an important erosion. Detailed analyses before/after exposure and before/after annealing allow us to describe the He interaction with the oxide layer, its erosion and structural modification at the atomic and micrometer scale.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Nuclear Materials - Volume 484, February 2017, Pages 91-97
Journal: Journal of Nuclear Materials - Volume 484, February 2017, Pages 91-97
نویسندگان
H. Hijazi, Y. Addab, A. Maan, J. Duran, D. Donovan, C. Pardanaud, M. Ibrahim, M. Cabié, P. Roubin, C. Martin,