کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5465067 1517558 2017 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
ترجمه فارسی عنوان
ویژگی های رشد پوشش های مس در رسوب با سرعت بالا با استفاده از سیستم های اسپکترومغناطیسی مگنترون با یک هدف مایع فلزی
ترجمه چکیده
ترکیبی از محاسبات و آزمایش ها، ساختار انرژی و ذرات ذرات را به سمت سوبسترا در طی عملیات سیستم اسپاتن مگنترون با یک هدف مایع فیزیکی نشان داده است. سهم این فلاکس ها که توسط مکانیزم های مختلف در طیف وسیعی از قدرت مگنترون شکل گرفته است، نیز کشف شده است. تجزیه و تحلیل خواص ساختاری و مکانیکی فیلم های مس که در نسبت های مختلف انرژی و ذرات نسبت به زیره قرار داده شده اند انجام شده است. یافته شده است که در تبخیر شدید سطح پوشش صاف و یکنواخت و اندازه دانه ها کاهش می یابد. خواص مکانیکی پوشش ها (چسبندگی و میکروشوئی) در مقادیر بالاتری نسبت به مواردی که مربوط به اسپاشیدن هستند، بیشتر است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
The combination of calculations and experiments have made it possible to reveal the structure of energy and particles fluxes towards the substrate during the operation of the magnetron sputtering system with a liquid-phase target. The contribution of these fluxes formed by different mechanisms in a wide range of magnetron power has also been found out. The analysis of structural and mechanical properties of copper films being deposited at different energy and particles fluxes ratio towards the substrate has been carried out. It has been found that at intensive evaporation the coating surface is smooth and uniform, and the size of grains decreases. The mechanical properties of coatings (adhesion and microhardness) have got higher values compared to the cases related to only sputtering.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 324, 15 September 2017, Pages 111-120
نویسندگان
, , , , , , , , , , , ,