کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942351 1450285 2018 24 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Lateral growth of NiSi at the θ-Ni2Si/Si(100) interface: Experiments and modelling
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Lateral growth of NiSi at the θ-Ni2Si/Si(100) interface: Experiments and modelling
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 199, 5 November 2018, Pages 45-51
نویسندگان
, , , , ,